蘋果的 iPhone 系列一直是尖端相機技術的代名詞，隨著 iPhone 16 Pro 的即將發布，人們的期望再次飆升。最近的洩密和謠言表明相機系統得到了顯著增強，有望將攝影和攝像提升到新的高度。
最有趣的發展之一是圍繞新的抗反射光學塗層技術。來自各種來源的報告，包括著名的洩密者 yeux1122，表明該科技巨頭正在為 iPhone 16 Pro 相機鏡頭試驗原子層沉積 (ALD)。這種革命性的工藝可以精確應用超薄塗層，有效減少鏡頭眩光和重影。
當雜散光進入鏡頭時，就會出現鏡頭眩光，從而導致最終圖像中出現不需要的偽影，例如光暈或條紋。儘管 iPhone 相機取得了顯著進步，但鏡頭眩光仍然是一個挑戰，尤其是在高對比度場景中。 ALD 提供了一種很有前途的解決方案，可以最大限度地減少鏡頭元件內的反射和散射，從而提高整體圖像質量。
這項創新的潛在影響是巨大的。通過減少鏡頭眩光，即使在具有挑戰性的照明條件下，用戶也可以獲得更清晰、更鮮豔的照片。無論是拍攝陽光下的風景還是明亮背景下的人像，iPhone 16 Pro 都能以最小的失真提供出色的效果。
ALD 技術不僅可以解決鏡頭眩光問題，還可以解決重影（攝影中的另一個常見問題）。當照片中出現微弱的次要圖像（通常靠近明亮光源）時，就會出現重影。借助 ALD 塗層，iPhone 16 Pro 旨在提供更清晰、更原始的圖像，不受干擾。
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雖然蘋果實施的具體細節尚未得到證實，但有跡象表明 ALD 塗層可能是 iPhone 16 Pro 機型獨有的。再加上傳聞中的其他相機升級，例如 48MP 超廣角相機以及 iPhone 15 Pro Max 中引入的 5 倍長焦鏡頭，Pro 系列有望再次重新定義移動攝影。
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