苹果的 iPhone 系列一直是尖端相机技术的代名词，随着 iPhone 16 Pro 的即将发布，人们的期望再次飙升。最近的泄密和谣言表明相机系统得到了显着增强，有望将摄影和摄像提升到新的高度。
最有趣的发展之一是围绕新的抗反射光学涂层技术。来自各种来源的报告，包括著名的泄密者 yeux1122，表明该科技巨头正在为 iPhone 16 Pro 相机镜头试验原子层沉积 (ALD)。这种革命性的工艺可以精确应用超薄涂层，有效减少镜头眩光和重影。
当杂散光进入镜头时，就会出现镜头眩光，从而导致最终图像中出现不需要的伪影，例如光晕或条纹。尽管 iPhone 相机取得了显着进步，但镜头眩光仍然是一个挑战，尤其是在高对比度场景中。 ALD 提供了一种很有前途的解决方案，可以最大限度地减少镜头元件内的反射和散射，从而提高整体图像质量。
这项创新的潜在影响是巨大的。通过减少镜头眩光，即使在具有挑战性的照明条件下，用户也可以获得更清晰、更生动的照片。无论是拍摄阳光下的风景还是明亮背景下的人像，iPhone 16 Pro 都能以最小的失真提供出色的效果。
ALD 技术不仅可以解决镜头眩光问题，还可以解决重影（摄影中的另一个常见问题）。当照片中出现微弱的次要图像（通常靠近明亮光源）时，就会出现重影。借助 ALD 涂层，iPhone 16 Pro 旨在提供更清晰、更原始的图像，不受干扰。
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虽然苹果实施的具体细节尚未得到证实，但有迹象表明 ALD 涂层可能是 iPhone 16 Pro 机型独有的。再加上传闻中的其他相机升级，例如 48MP 超广角相机以及 iPhone 15 Pro Max 中引入的 5 倍长焦镜头，Pro 系列有望再次重新定义移动摄影。
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